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      2025 科研開(kāi)局,沒(méi)這六大儀器?你可能已經(jīng)落后了!

      發(fā)布時(shí)間: 2025-02-17  點(diǎn)擊次數: 479次

      選型指南

       

       

      隨著(zhù) 2025 年國家自然科學(xué)基金原創(chuàng )探索計劃項目申請指南的發(fā)布,科研界再次迎來(lái)了一波新的機遇與挑戰!面對這些機遇,除了創(chuàng )新的學(xué)術(shù)思想,選擇合適的工具更您助您掌握通向成功的鑰匙。

       

      復納科技六大明星產(chǎn)品:

      • 飛納臺式掃描電鏡

      • Technoorg Linda 制樣設備離子研磨儀

      • NEOSCAN 高分辨臺式顯微CT

      • DENSsolutions 原位透射樣品桿

      • Forge Nano 粉末原子層沉積系統

      • VSParticle 納米氣溶膠沉積系統

       

      這些儀器在 2024 年創(chuàng )造了多個(gè)里程碑時(shí)刻,為科研和工業(yè)研發(fā)提供了高效、精確的微觀(guān)表征與分析工具,幫助您更加深入地探索材料微觀(guān)世界的奧秘,加速科學(xué)發(fā)現和技術(shù)創(chuàng )新的步伐。

       

      如何在 2025 年的科研征程中搶占先機呢?復納科技的六大儀器產(chǎn)品或許能為您提供答案。我們特別推出了產(chǎn)品選型指南,幫助您深入了解這些儀器產(chǎn)品如何助力科研人員實(shí)現從無(wú)到有的原創(chuàng )成果,為科研之旅保駕護航。

       

      PHENOM 飛納臺式掃描電鏡

       

      在當今科學(xué)研究和工業(yè)應用中,掃描電鏡顯微鏡與能譜儀已成為材料實(shí)驗室表征工具。荷蘭飛納臺式掃描電鏡(Phenom)以其前沿技術(shù)和用戶(hù)友好的設計,被 2000+ 用戶(hù)認可,研究領(lǐng)域涉及金屬及合金、電池、地質(zhì)、考古、高分子、靜電紡絲、陶瓷、復合材料、生物醫學(xué)和微生物等,成為科研和工業(yè)研發(fā)高效、精確材料微觀(guān)表征與分析的。

       

      飛納電鏡產(chǎn)品線(xiàn)有:臺式肖特基熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、CeB6 燈絲 XL 系列智能化臺式掃描電鏡、CeB6 燈絲 P系列高性?xún)r(jià)比臺式掃描電鏡,ParticleX 系列全自動(dòng)顆粒和異物檢測掃描電鏡,DiatomAI 全自動(dòng)硅藻檢測系統(電鏡法)。

       

      飛納臺式掃描電鏡

       

      • 相較傳統電鏡,成像速度提升 10 倍:15s 抽真空,30s 成像

      • 采用超長(cháng)壽命的 CeB6 燈絲,平均 3 年以上更換燈絲

      • 不挑安裝環(huán)境,防震防磁,放置高樓層也無(wú)需擔心

      • 原廠(chǎng)集成能譜 EDS,一分鐘給出 SEM 和元素分析 2 個(gè)結果

      • 讓精密儀器無(wú)后顧之憂(yōu),全球 5000+ 用戶(hù)選擇

      • 最“老"的電鏡,也是最“新"的電鏡!

      • 自動(dòng)化掃描電鏡,讓測試效率翻倍

      • 高效穩定的臺式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

       

      Phenom 飛納電鏡型號推薦

       

       

       

       

       

       

       

      2024年,飛納電鏡還推出一系列新技術(shù)--ChemiSEM 彩色成像軟件,ChemiPhase 物相分析軟件、Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等新技術(shù),不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統認知,而且將掃描電鏡成像分析帶入一個(gè)全新的高度。此外,Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機,可以實(shí)現在同一系統中對樣品進(jìn)行多模態(tài)(SEM 及 AFM 形貌、元素、機械、電學(xué)、磁學(xué))的關(guān)聯(lián)分析。

       

      2025 年,為您的材料實(shí)驗室增購飛納臺式掃描電鏡,揭開(kāi)材料微觀(guān)世界的奧秘,加速科學(xué)發(fā)現和技術(shù)創(chuàng )新的步伐。

       

       

      Technoorg Linda  離子束制樣設備

       

      Technoorg Linda 提供專(zhuān)業(yè)的樣品制備解決方案。 產(chǎn)品通過(guò)超高能氬離子槍和低能氬離子槍?zhuān)瑢悠愤M(jìn)行無(wú)損研磨,精細加工以及最終精修。具體包括SEM樣品制備(SEMPrep SMART)、FIB離子精修(Gentle Mill)、TEM 樣品制備離子減薄儀(Unimill)以及 GIB 精修離子束系統等產(chǎn)品。Technoorg Linda 榮獲 2024 年 Red Dot Concept Award(紅點(diǎn)獎)工業(yè)設備類(lèi)別獎項。這些產(chǎn)品與所有品牌的電子顯微鏡兼容,涵蓋從機械樣品制備到離子研磨和最終精修的整個(gè)減薄過(guò)程。適用于材料科學(xué)、生物研究、地質(zhì)學(xué)、半導體和光學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。

       

      型號推薦——Technoorg Linda 離子束制樣設備

       

      SMART 離子研磨儀

      用于SEM/EBSD樣品制備

      • 樣品表面拋光/截面切削

      • 氬離子束無(wú)應力處理樣品

      • 定位精準:可實(shí)現 ± 1微米

      • 離子槍能量最高:0-16 KV

      • 超大樣品腔室:容納直徑50mm樣品

      • 制冷設計:液氮 LN2 制冷

      • 可選配真空轉移功能

       

      Gentle Mill 離子精修儀

      用于FIB樣品處理

      Gentle Mill 離子精修儀產(chǎn)品采用氬離子束,專(zhuān)為最終拋光、精修和改善 FIB 處理后的樣品而設計。Gentle Mill 型號非常適合要求樣品無(wú)加工痕跡、表面幾乎沒(méi)有任何損壞的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用戶(hù)。其配備了設計的低能氬離子槍?zhuān)x子束能量低可達 100eV,可把非晶層厚度精修到 1nm 以下,獲得樣品的真實(shí)信息。

       

      UniMill 離子減薄儀

      用于 TEM/XTEM 樣品制備

      Unimill 離子減薄儀專(zhuān)為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM / XTEM 樣品而設計。 即可以使用全球超高能離子槍進(jìn)行快速研磨,也可以使用專(zhuān)用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理。

       

      GIB 精修離子束系統

      可集成于FIB內進(jìn)行樣品處理

      精修離子束系統(GIB)適用于表面減薄、其他表面處理后的后處理、清潔以及去除無(wú)定形和氧化物表面層。當低能氬離子槍集成到掃描電鏡中時(shí),其作用尤為明顯。有了集成離子槍?zhuān)涂梢栽谘芯恐皩悠愤M(jìn)行精修。實(shí)現高質(zhì)量樣品的另一個(gè)重要應用是在雙束 SEM / FIB 系統中進(jìn)行 FIB 樣品制備后,對 TEM 樣品進(jìn)行最終拋光和溫和的表面清潔。 

       

      Neoscan  X射線(xiàn)顯微CT

       

      NEOSCAN 臺式顯微 CT 采用先進(jìn)的 X 射線(xiàn)成像技術(shù),結合精密的機械系統和圖像重建算法,能夠非破壞性地獲取樣品的內部結構信息。最小體素尺寸可達 40nm,用臺式技術(shù)重新定義納米CT!還可選配集成 XRF 系統,輕松進(jìn)行化學(xué)成分分析,鉀(K)以上元素可分辨!在骨科、生物、農業(yè)、3D打印、制藥、考古、材料科學(xué)等行業(yè)都有著(zhù)廣泛應用!相較于傳統的大型 CT 設備,Neoscan 臺式顯微 CT 更加緊湊便攜,適用于實(shí)驗室和研究機構的日常使用。這種新穎的技術(shù)和表征手段在科研和工業(yè)界中獨樹(shù)一幟,為您尋求突破傳統研究方法限制開(kāi)辟了新的視野。

       

      Neoscan 顯微CT 

      • 開(kāi)創(chuàng )性高分辨顯微CT,重新定義臺式技術(shù)!

      • 最小體素尺寸可達 40nm

      • 集成 XRF系統,可進(jìn)行化學(xué)成分分析

      • 鉀(K)以上元素可分辨

      • 樣品尺寸可達 100mm* 400 mm

       

       

      DENSsolutions TEM 原位實(shí)驗樣品桿

       

      傳統透射電子顯微鏡 (TEM) 主要用于成像材料結構,近年來(lái)球差等先進(jìn)技術(shù)使其達到原子分辨率。然而,它們無(wú)法模擬真實(shí)環(huán)境(加熱、氣體、液體等),限制了應用價(jià)值。DENSsolutions 的原位透射電鏡技術(shù)突破了這一瓶頸!利用微機電系統 (MEMS) 技術(shù),可以為原位 TEM 樣品施加外界刺激,捕捉 TEM 樣品在真實(shí)環(huán)境下的動(dòng)態(tài)現象。

       

      目前,DENSsolutions 已經(jīng)可以在 TEM 中引入氣、液、熱、電、冷凍等多種狀態(tài),提供 Wildfire TEM 原位加熱樣品桿、Lightning TEM 原位熱電樣品桿、Climate Infinity TEM 原位氣相加熱加電樣品桿以及 Stream Infinity TEM 原位液相加熱加電樣品桿以及 Lightning Arctic 原位冷凍熱電樣品桿,為材料科學(xué)研究提供了強大的工具,推動(dòng)了納米材料、催化劑和納米電子器件等領(lǐng)域的進(jìn)步和創(chuàng )新。

       

      DENSsolutions,將電鏡從靜態(tài)成像工具變身為多功能實(shí)驗室,助力您納米科技前沿!

       

       

      ForgeNano  粉末原子層沉積系統

       

      Forge Nano 是粉末原子層沉積方案供應商,利用其平臺技術(shù),可以在高比表面積的粉末顆粒表面構筑超薄的納米涂層或活性組分,開(kāi)發(fā)多種涂層工藝。同時(shí),Forge Nano 是全球少數可將粉體ALD技術(shù)進(jìn)行工業(yè)化放大的企業(yè)(千噸級粉末處理能力)。我們誠摯地邀請廣大科研工作者,利用新型 ALD 平臺開(kāi)發(fā)可放大的粉體涂層工藝,為新能源、催化、粉末冶金以及制藥等研究方向帶來(lái)更多無(wú)限可能。

       

      Forge Nano 粉末ALD系統

      • 20年粉末ALD技術(shù)沉淀,專(zhuān)注粉末工程,行業(yè)前沿

      • 集成式在線(xiàn)質(zhì)譜實(shí)時(shí)監測,涂層生長(cháng)全程可視化,確保工藝精度

      • 毫克實(shí)驗到千噸量產(chǎn),Forge Nano ALD一站式解決

      • 流化床創(chuàng )新設計,提升氣體傳輸效率,避免粉末團聚

      • 旋轉床+可視化監測,無(wú)需過(guò)濾芯設計更高效

      • 支持代包覆合作方案

       

       

      型號推薦

      Forge Nano 粉末原子層沉積系統

       

      PROMETHEUS 流化床ALD系統

      利用 Prometheus 流化床原子層沉積系統可開(kāi)發(fā)探索復雜的高比表面積粉末涂層,實(shí)現克級到公斤級粉末材料的界面涂層生長(cháng)。批次處理能力提升至企業(yè)驗證需求的水平,可加快成果轉化速度。適合兼顧科學(xué)研究以及成果轉化的工藝開(kāi)發(fā)需求,實(shí)現與企業(yè)小試要求的無(wú)縫銜接。

       

      PANDORA 多功能ALD系統

      Pandora 多功能原子層沉積系統使用操作簡(jiǎn)單,兼容性強,適合在前期快速開(kāi)展粉末包覆和平面樣品薄膜沉積的研究。同時(shí),該系統能真正做到兼顧多種不同樣品的需求,可處理各種復雜樣品并做到 ALD 包覆。 


       

      VSParticle  納米研究平臺

       

      納米制造技術(shù)作為納米科技應用的基石,對于實(shí)現科研成果的產(chǎn)業(yè)化具有舉足輕重的作用。新型的納米制造實(shí)驗設備可促進(jìn)科學(xué)成果從 0 到 1 的突破以及成果的商業(yè)化轉化,是科研設備更新的重要方向。在納米科技的前沿領(lǐng)域,荷蘭 VSParticle 公司以其革命性的火花燒蝕納米氣溶膠沉積技術(shù),為研究者和產(chǎn)業(yè)界帶來(lái)了一系列創(chuàng )新的納米顆粒制備和印刷沉積設備。

       

      VSParticle 將先進(jìn)的納米多孔層打印技術(shù)與多倫多大學(xué)的測試平臺和 Meta AI 的模型結合在一起,在短短幾個(gè)月內,就從不同的元素組合中合成了 525 種材料,以發(fā)現應對氣候變化的電催化材料,建立了最大的開(kāi)源實(shí)驗催化劑數據庫。目前 VSParticle 納米沉積系統在浙江大學(xué),東南大學(xué),北京工業(yè)大學(xué),中科院物理所,中南大學(xué),廣東工業(yè)大學(xué)等學(xué)術(shù)機構和企業(yè)均已裝機?;鸹g沉積技術(shù)已被眾多學(xué)者證明,在Nature,Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊發(fā)表相關(guān)文章,是新型納米制造的利器。(推薦閱讀:Nature 大子刊、AM 都在用!氣溶膠沉積助力科研“彎道超車(chē)")

       

      型號推薦

      VSParticle 納米氣溶膠沉積系統

       

      VSP-P1 納米印刷沉積系統

      VSP-P1 納米印刷沉積系統是 VSParticle 產(chǎn)品線(xiàn)中的設備,專(zhuān)為材料開(kāi)發(fā)和小規模生產(chǎn)測試而設計。利用火花燒蝕材料的沖壓沉積技術(shù),能夠實(shí)現從稀疏團聚體到厚達幾微米的連續層的不同層厚度印刷沉積。它的圖案化打印功能使得研究人員能夠在非半導體類(lèi)的納米薄膜應用中實(shí)現精細的厚度控制。VSP-P1 在高效催化劑涂層膜的開(kāi)發(fā)、電催化劑篩選和氣體傳感器研究中展現了其性能和靈活性。

       

      VSP-G1 納米粒子發(fā)生器

      VSP-G1 納米粒子發(fā)生器是一臺桌面式儀器,可生成尺寸范圍為 1 – 20 nm 的純金屬、金屬氧化物、碳、半導體、合金納米氣溶膠材料。納米顆粒的生產(chǎn)采用純物理火花燒蝕技術(shù)制備,在氣相中進(jìn)行,無(wú)需真空,無(wú)需使用表面活性劑或前驅體。用于納米粒子生產(chǎn)的源材料僅需材料制成所需的兩根靶材(電極),使用時(shí)只需安裝電極并設置參數,按下按鈕即可開(kāi)始生成納米顆粒。

       

       

      VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統

      VSP-S1 是 VSP-G1 的理想伴侶,它是一款用戶(hù)友好的納米粒子尺寸選擇器,能夠輕松篩選出 1-10nm 范圍內的單一尺寸顆粒。VSP-S1 納米粒徑篩選沉積系統提供 0.1nm 分辨率的精準控制;適用于原位 TEM 研究和尺寸依賴(lài)的效應研究;具備實(shí)時(shí)跟蹤功能,確保樣品一致性和可靠性。

       




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