掩膜版｜保護膜表面顆粒物快速檢測系統

Fastmicro 掩膜版｜保護膜表面顆粒物快速檢測系統（PDS）

掩膜版｜保護膜表面顆粒物快速檢測系統（PDS）為掩膜版、掩膜版保護膜以及基板（襯底）制造工藝，提供高通量的表面顆粒污染檢測服務(wù)。

該系統對粒徑大于 0.1µm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高效且提供服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式，以及較低的維護成本，取代傳統的顆粒檢測系統。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 高通量檢測：每小時(shí)可檢測 400 片晶圓（WPH）

• 數據輸出：根據 ISO 14644-9 標準，在用戶(hù)界面和 PDF 報告輸出 SCP 等級

• 正反兩面檢測：?jiǎn)未螠y量中完成正反兩面檢測（無(wú)需翻轉）

• 檢測范圍：能夠檢測 ≥ 0.1µm 聚苯乙烯乳膠（PSL）等效顆粒（經(jīng) NIST 認證）

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生產(chǎn)過(guò)程中的一致性測量

快速: 能在數秒內完成大面積成像

定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監測

操作簡(jiǎn)便: 不受操作人員影響，自動(dòng)化，潔凈抓取方式

精準: 高分辨率測量（數量、位置、尺寸）

一致性: 每次測量都保持客觀(guān)、穩定

高通量: 能在工藝時(shí)間窗口內得出結果

FM-PDS: 直接檢測表面顆粒

該系統可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導體以及先進(jìn)封裝應 用，提供高通量的表面顆粒污染檢測服務(wù)。 

該系統對粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度，是一種高 效且提供服務(wù)的選擇。

它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式，以及 較低的維護成本，取代傳統的顆粒檢測系統。 

對于下一代半導體生產(chǎn)應用， PDS 系統具備的屬性：雙面同 時(shí)掃描（選配）；

靜態(tài)視場(chǎng)掃描（在圖像采集過(guò)程中無(wú)需移動(dòng)產(chǎn)品）。

多功能模塊化平臺

系統專(zhuān)為直接測量 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）掩膜版保 護膜、掩模版或其他類(lèi)型基板表面的顆粒污染水平而研發(fā)。

?該系統可根據需要客戶(hù)需求進(jìn)行定制和擴展。測量模塊也可為系 統集成商和原始設備制造商（OEM）提供貼牌服務(wù)